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スパッタリングターゲット

溶解法による
スパッタリングターゲット

超音波深傷によるバッキングプレート接合率の品質保証体制

自社工場での一貫生産（精錬・溶解・加工・分析）により、短納期対応が可能です。

仕様

  • Auターゲット（丸型）

  • Ptターゲット（丸型）

  • Agターゲット（角型）

対応元素AuAgPtPd
純度3Nup〜4N3Nup〜4N3Nup〜4N3Nup〜4N
形状丸型・角型・段付等々各種形状のご相談を承ります
付属品納品時に分析検査報告書を添付いたします

※合金材料等の製造・その他の場合もご相談を承ります。

短納期で対応可能な主な規格

（mm）
対応元素 Au・Pt・Pd・Ag
純度 4N
Φ 10.0・20.0・21.0・24.0・25.0・25.4・42.0・49.0・50.0・50.7・57.0
T 0.5t・1.0t

※厚み1t以上の製造も可能です。納期やその他の仕様につきましては、お気軽にお問い合わせください。

純貴金属ターゲット以外にも対応

溶解法によるターゲットでは貴金属以外や貴金属合金にも柔軟にご相談に応じます。

ターゲット名称主な用途参考画像
Au-Si金シリコン全固体電池関連
Vバナジウム水素透過膜

焼結法による
スパッタリングターゲット

加熱加圧成形により酸化物系、化合物系、合金系 ターゲットを提供いたします。
対応寸法はΦ1インチからΦ12インチとなります。

焼結法によるスパッタリングターゲット一覧

ターゲット名称主な用途参考画像
WO3酸化タングステン

※相対密度90％以上

※導電性あり

半導体センサー膜
光学膜
光触媒膜
ZnO酸化亜鉛透明導電膜
SnO2酸化錫透明導電膜
ガスセンサー膜
WSi2タングステンシリサイドバリア膜
MoSi2モリブデンシリサイドゲート電極膜
耐熱膜
W-Tiタングステンチタン

※10％Ti標準

拡散防止膜
Ni-Zn-Feニッケル・亜鉛・鉄薄膜磁気ヘッド関連
Ni-Zn-FeAl2O3添加酸化亜鉛透明導電膜
MoS2二硫化モリブデン潤滑膜

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