スパッタリング成膜と
蒸着成膜

代表的なコーティング技術であるスパッタリング成膜と蒸着成膜をご紹介します。

スパッタリング成膜は、プラズマ等により高いエネルギーをもったガス粒子を材料（ターゲット）に衝突させてその衝撃で材料成分を叩き出し基板に材料粒子を堆積させる成膜方法です。

材料そのものを叩き出しているので高融点材料や合金さらにセラミックス材を基板に堆積できます。

真空中で膜にしたい材料を種々の加熱方法で蒸発あるいは昇華させ、その蒸気が膜をつけたい基板に到達して堆積することで膜を形成する方法です。

蒸発材料や基板に電気的に印加させることなく、気化した材料がそのまま基盤に到達するため、基板のダメージが少なく純度の高い膜が形成できます。